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M-3手持式四探針測(cè)試儀是運(yùn)用四探針測(cè)量原理測(cè)試材料電阻率/方塊電阻的多用途、高性?xún)r(jià)比測(cè)量?jī)x器。廣泛適用于半導(dǎo)體材料廠、科研單位、高等院校四探針?lè)▽?duì)導(dǎo)體、半導(dǎo)體、類(lèi)半導(dǎo)體材料的導(dǎo)電性能的測(cè)試。

振動(dòng)樣品臺(tái)主要適用于我公司制造的VTC-600-2HD雙靶磁控濺射儀、VTC-600-3HD三靶磁控濺射儀。用于對(duì)粉末樣品的濺射鍍膜使用，由于樣品臺(tái)的不斷振動(dòng)，使粉末顆粒樣品不斷進(jìn)行翻轉(zhuǎn)，從而使粉末顆粒的整個(gè)外表面全部濺射上所需要的薄膜材料，或用薄膜材料將粉末進(jìn)行包覆。

掩膜版結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單，主要與我公式制造的GSL-1800X-ZF4蒸發(fā)鍍膜儀、GSL-1800X-ZF2蒸發(fā)鍍膜儀、VTC-600-3HD三靶磁控濺射儀、VTC-600-2HD雙靶磁控濺射儀、GSL-1100X-SPC-16單靶等離子濺射儀、GSL-1100X-SPC-15E-LD小型蒸鍍儀、GSL-1100X-SPC-16C濺射蒸鍍膜儀等蒸發(fā)鍍膜儀和濺射鍍膜儀配套使用。

TFMS-LD是一款反射光譜薄膜測(cè)厚儀，可快速精確地測(cè)量透明或半透明薄膜的厚度，其測(cè)量膜厚范圍為15nm-50um，儀器所發(fā)出測(cè)試光的波長(zhǎng)范圍為400nm-1100nm。此款測(cè)試系統(tǒng)理論基礎(chǔ)為鏡面反射率，并且采用光纖反射探頭。儀器尺寸小巧，方便于在實(shí)驗(yàn)室中擺放和使用。